SLA (stéréolithographie) est un processus de fabrication additive qui fonctionne en focalisant un laser UV sur une cuve de résine photopolymère. À l'aide d'un logiciel de fabrication assistée par ordinateur ou de conception assistée par ordinateur (FAO/CAO), le laser UV est utilisé pour dessiner un dessin ou une forme préprogrammée sur la surface de la cuve photopolymère. Les photopolymères sont sensibles à la lumière ultraviolette, de sorte que la résine est solidifiée photochimiquement et forme une seule couche de l'objet 3D souhaité. Ce processus est répété pour chaque couche de la conception jusqu'à ce que l'objet 3D soit terminé.
CARMANHAAS pourrait offrir au client le système optique comprenant principalement un scanner galvanomètre rapide et une lentille de balayage F-THETA, un extenseur de faisceau, un miroir, etc.
Tête de scanner Galvo 355 nm
| Modèle | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Tête de numérisation refroidie à l'eau/scellée | Oui | Oui | Oui |
| Ouverture (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Angle de balayage efficace | ±10° | ±10° | ±10° |
| Erreur de suivi | 0,19 ms | 0,28 ms | 0,45 ms |
| Temps de réponse par étapes (1 % de la pleine échelle) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
| Vitesse typique | |||
| Positionnement / saut | < 15 m/s | < 12 m/s | < 9 m/s |
| Balayage de lignes/balayage raster | < 10 m/s | < 7 m/s | < 4 m/s |
| Balayage vectoriel typique | < 4 m/s | < 3 m/s | < 2 m/s |
| Bonne qualité d'écriture | 700 pièces | 450 pièces | 260 pièces |
| Haute qualité d'écriture | 550 pièces | 320 pièces | 180 pièces |
| Précision | |||
| Linéarité | 99,9% | 99,9% | 99,9% |
| Résolution | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Répétabilité | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Dérive de température | |||
| Dérive décalée | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| Qver 8 heures de dérive de décalage à long terme (après 15 minutes d'avertissement) | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Plage de température de fonctionnement | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ |
| Interface de signaux | Analogique : ±10 V Numérique : protocole XY2-100 | Analogique : ±10 V Numérique : protocole XY2-100 | Analogique : ±10 V Numérique : protocole XY2-100 |
| Exigence de puissance d'entrée (DC) | ±15 V à 4 A RMS maximum | ±15 V à 4 A RMS maximum | ±15 V à 4 A RMS maximum |
Objectifs F-Thêta 355 nm
| Description de la pièce | Distance focale (mm) | Champ de numérisation (mm) | Entrée maximale Pupille (mm) | Distance de travail (mm) | Montage Fil |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
Extenseur de faisceau 355 nm
| Description de la pièce | Expansion Rapport | Entrée CA (mm) | Sortie CA (mm) | Logement Diamètre (mm) | Logement Longueur (mm) | Montage Fil |
| BE3-355-D30 :84,5-3x-A(M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33 :84,5-5x-A(M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33 :80,3-7x-A(M30*1-M43*0,5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80,3 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0.5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90,0 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0.5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72,0 | M30*1-M43*0.5 |
Miroir 355 nm
| Description de la pièce | Diamètre (mm) | Épaisseur (mm) | Revêtement |
| 355 Miroir | 30 | 3 | HR à 355 nm, 45° AOI |
| 355 Miroir | 20 | 5 | HR à 355 nm, 45° AOI |
| 355 Miroir | 30 | 5 | HR à 355 nm, 45° AOI |
