Système optique de balayage dynamique : 1 petite lentille de mise au point, 1 à 2 lentilles de mise au point, miroir galvo. L'ensemble de la lentille optique forme une fonction d'expansion du faisceau, de focalisation et de déviation du faisceau et de balayage.
La partie expansive est une lentille négative, c'est-à-dire une lentille à faible focalisation, qui permet l'expansion du faisceau et le zoom mobile. La lentille de focalisation est composée d'un groupe de lentilles positives. Le miroir galvanométrique est un miroir du système galvanométrique.
(1) Optimisation de la conception des lentilles : rapport optimal entre le diamètre et l'épaisseur
(2) Seuil de dommage élevé de la lentille : > 30 J/cm2 10 ns
(3) Revêtement à absorption ultra-faible, taux d'absorption : < 20 ppm
(4) Rapport épaisseur/diamètre du galvanomètre : 1 : 35
(5) Précision de la surface de la lentille : <= λ/5
Lentille post-objectif
| Pupille d'entrée maximale (mm) | Optique 1 Diamètre (mm) | Optique 2 Diamètre (mm) | Optique 3 Diamètre (mm) | Champ de numérisation (mm) | Ouverture claire du scanner (mm) | Longueur d'onde |
| 8 | 15 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 10,6 µm |
| 12 | 22 | 55 | 55 | 1600x1600 | 30 | |
| 8 | 16 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 1030-1090 nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 532 nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 355 nm |
Miroir réflecteur
| Description de la pièce | Diamètre (mm) | Épaisseur (mm) | Matériel | Revêtement |
| Réflecteur en silicium | 25,4 | 3 | Silicium | HR@10.6um,AOI : 45° |
| Réflecteur en silicium | 30 | 4 | Silicium | HR@10.6um,AOI : 45° |
| Réflecteur à fibre | 25,4 | 6.35 | Silice fondue | HR à 1 030-1 090 nm, AOI : 45° |
| Réflecteur à fibre | 30 | 5 | Silice fondue | HR à 1 030-1 090 nm, AOI : 45° |
| Réflecteur à fibre | 50 | 10 | Silice fondue | HR à 1 030-1 090 nm, AOI : 45° |
| Réflecteur 532 | 25,4 | 6 | Silice fondue | HR à 515-540 nm/532 nm, AOI : 45° |
| Réflecteur 532 | 25,4 | 6.35 | Silice fondue | HR à 515-540 nm/532 nm, AOI : 45° |
| Réflecteur 532 | 30 | 5 | Silice fondue | HR à 515-540 nm/532 nm, AOI : 45° |
| Réflecteur 532 | 50 | 10 | Silice fondue | HR à 515-540 nm/532 nm, AOI : 45° |
| Réflecteur 355 | 25,4 | 6 | Silice fondue | HR à 355 nm et 433 nm, AOI : 45° |
| Réflecteur 355 | 25,4 | 6.35 | Silice fondue | HR à 355 nm et 433 nm, AOI : 45° |
| Réflecteur 355 | 25,4 | 10 | Silice fondue | HR à 355 nm et 433 nm, AOI : 45° |
| Réflecteur 355 | 30 | 5 | Silice fondue | HR à 355 nm et 433 nm, AOI : 45° |
Miroir Galvo
| Description de la pièce | Pupille d'entrée maximale (mm) | Matériel | Revêtement | Longueur d'onde |
| 55 mm (L) x 35 mm (l) x 3,5 mm (H) 62 mm (L) x 43 mm (l) x 3,5 mm (T-Y) | 30 | Silicium | MMR@10.6um | 10,6 µm |
| 55 mm (L) x 35 mm (l) x 3,5 mm (H) 62 mm (L) x 43 mm (l) x 3,5 mm (T-Y) | 30 | Silice fondue | FC à 1 030-1 090 nm | 1030-1090 nm |
| 55 mm (L) x 35 mm (l) x 3,5 mm (H) 62 mm (L) x 43 mm (l) x 3,5 mm (T-Y) | 30 | Silice fondue | FC à 532 nm | 532 nm |
| 55 mm (L) x 35 mm (l) x 3,5 mm (H) 62 mm (L) x 43 mm (l) x 3,5 mm (T-Y) | 30 | Silice fondue | FC à 355 nm | 355 nm |
Lentille de protection
| Diamètre (mm) | Épaisseur (mm) | Matériel | Revêtement |
| 75 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 80 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x60 | 5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x64 | 2,5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x70 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
